UVFAB Systems清洗機 HELIOS-600 儀器紫外線臭氧清洗系統 HELIOS-600型 UVFAB的紫外線臭氧清潔系統提供了一種簡單、廉價、快速的方法，可以在大多數基材上獲得無有機污染物的超清潔表面，如石英、硅、金、鎳、鋁、砷化鎵、氧化鋁、載玻片等。在基材清潔后幾分鐘內，使用紫外線臭氧清潔劑可以很容易地實現超清潔表面。 紫外線臭氧清潔過程是一種光敏氧化過程，其中光致抗蝕劑、樹脂、人
UVFAB Systems UV 固化系統 儀器UV固化系統 紫外線固化（通常稱為紫外線固化）是一種光化學過程，其中使用高強度紫外線立即固化或“干燥”油墨、涂料或粘合劑。與傳統干燥方法相比具有許多優點。，UV固化已被證明可以提高生產速度，降低廢品率，提高耐刮擦性和耐溶劑性，并促進優異的粘合。 紫外線固化的好處： UV固化系統占用更少的空間，因此商店可以利用更多的創收設備 紫外線使用更少的
UVFAB Systems 晶圓安裝系統 儀器FM-2246 FM-2246型用于切割（300mm/12英寸晶圓） 用于切割（200毫米/8英寸晶圓） 用于切割（150mm/6英寸晶圓） 型號FM-2243-BG 型號FM-2248-BG
Tobias TBX2000 密度計 儀器打印機可以節省時間和材料 EPLEX數字預設系統代表了一個具有巨大節省潛力的領域的非凡進步：印刷機準備。使用DXP數字文件閱讀器和PSM印刷機界面，快速準確地預測每個印版、每次印刷的最佳噴泉鍵預設值，從而顯著節省印刷時間和材料。 精確的圖像面積計算 DXP文件渲染器讀取由計算機直接制版（CTP）系統創建的數字CIP3/TIFF文件，以確定作業中每個印版的
UVOCS Inc UV 清洗機 儀器T10X10/OES 紫外線臭氧清洗系統 UV/臭氧清潔工藝提供了一種簡單、廉價、快速的方法，可以獲得無有機污染物的超清潔表面。當需要對表面具有優異粘附性的薄膜沉積時，該工藝是理想的。在用傳統技術清潔表面后，通過UV/臭氧處理，可以在一到幾分鐘內輕松實現超清潔表面。
Optical Associates 曝光系統儀器2000AF 2012AF型洪水暴露系統為自動洪水暴露提供了一種經濟高效的方法。 2012SM型自動邊緣焊道曝光系統提供了一種使用標準蔭罩技術去除邊緣焊道的經濟高效的方法。 這兩種型號都允許快速有效地更換掩模和基板，增加了這種生產工具的多功能性和高產量。此外，它們的設計可容納8英寸至300毫米的晶圓，該工具具有自動裝載FOUP的功能。
oainet Model 30 UV 光源 儀器這款UV LED光源由OAI經過驗證的光刻專家設計和制造。光源具有許多獨特的優點，其中最重要的是在超長壽命內保持一致的強度。該光源具有高能效，無需維護或更換燈具，且不含汞。 OAI UV LED光源的光束尺寸在4英寸至12英寸之間，光束均勻性優于±4%。它具有棱鏡陣列和光管，具有優異的均勻性。準直角小于2度。該光源能夠具有可變強度，波長為365nm、
oainet 光度計Model 308 儀器 308型紫外線光度計 OAI 308型紫外線光度計可靠且可重復，是一種精確的直讀儀器，旨在測量紫外線強度。308型具有可拆卸探頭，適用于UVA、UVB和UVC范圍，以及高速串行端口，并配有可選軟件包，可方便對強度模式、時間、波長、序列號和校準到期日期進行即時數據記錄。 308型紫外線光度計用于光刻、MEMS、3D打印、包裝和紫外線固化與消毒。該紫外
Novascan PSD-UV 臭氧清洗機 儀器Novascan PSD-UV、PSDP-UV 和 PSDP-UVT紫外/臭氧處理系統 憑借*成千上萬的用戶，Novascan 的 PSD 和 PSDP 系列紫外/臭氧系統已被證明是性能可靠、行之有效的設備。歡迎立即聯系 Novascan，我們將協助您為您的應用選擇最合適的系統。 - 表面原子級清洗
*EVA20TIC呼吸器 儀器Bullard BULEVA20TIC EVA電動空氣呼吸器（PAPR）系統，帶20TIC醋酸纖維遮光*Benchmark Scientific MR9600 儀器 配置為120V 直觀的7英寸彩色觸摸屏控制面板 基于濾光片的系統，波長范圍為340750 nm 作為立系統運行，帶有USB閃存盤驅動器，用于數據傳輸 吸光度范圍：0.04.0000 Ab
